CIQTEK Showcases Electron Microscopy Solutions at The Minerals, Metals & Materials Society (TMS) 2026, USA
CIQTEK Showcases Electron Microscopy Solutions at The Minerals, Metals & Materials Society (TMS) 2026, USA
March 18, 2026
CIQTEK participated in the TMS 2026 Annual Meeting & Exhibition, held from March 15–19, 2026 in San Diego, California, USA. Our U.S. team and local distribution partner welcomed visitors at Booth #307, where we presented our latest electron microscopy solutions for materials science applications.
About TMS 2026
Organized by The Minerals, Metals & Materials Society (TMS), this annual meeting is a key event for the global materials science community. It brings together researchers, engineers, and industry professionals working in areas such as metallurgy, advanced materials, additive manufacturing, and characterization technologies.
The event provides a strong platform for exchanging ideas, discovering new technologies, and discussing real-world challenges in materials research and production.
Tailored SEM Solutions for Materials Research
CIQTEK showcased electron microscopy solutions designed to support a wide range of materials science applications.
Our systems are well-suited for:
Microstructure analysis of metals and alloys
Failure analysis and defect investigation
Powder and particle characterization
Additive manufacturing and new materials research
Many visitors were particularly interested in how CIQTEK systems deliver stable imaging performance while remaining easy to operate. For labs balancing performance, usability, and budget, this combination is especially important.
We also had in-depth discussions with users about their daily challenges, such as improving imaging efficiency, simplifying workflows, and handling complex samples. These conversations help us better align our solutions with real application needs.
Strong Local Presence and Support in the U.S.
Participation in TMS 2026 is part of CIQTEK's broader strategy to expand its electron microscopy business in the U.S. market.
We offer:
A U.S.-based demo center for hands-on evaluation
U.S. Local technical and application support
Faster response for service and training
We continue to invest in local teams, infrastructure, and partnerships to support researchers and industry users better. By combining competitive technology with localized service, CIQTEK aims to make high-quality electron microscopy more accessible across North America.
Ultra Alta Resolução Microscópio eletrônico de varredura de filamento de tungstênio O CIQTEK SEM3300 Microscópio Eletrônico de Varredura (MEV) incorpora tecnologias como óptica eletrônica "Super-Túnel", detectores de elétrons em lentes e lentes objetivas compostas eletrostáticas e eletromagnéticas. Ao aplicar essas tecnologias ao microscópio de filamento de tungstênio, o antigo limite de resolução desse tipo de microscópio eletrônico de varredura (MEV) é superado, permitindo que o MEV de filamento de tungstênio realize tarefas de análise de baixa voltagem, antes possíveis apenas com MEVs de emissão de campo.
Ga + Microscópio eletrônico de varredura por emissão de campo de feixe de íons focalizado O Microscópio eletrônico de varredura de feixe de íons focalizado (FIB-SEM) CIQTEK DB550 Possui uma coluna de feixe de íons focalizado para nanoanálise e preparação de amostras. Utiliza tecnologia de óptica eletrônica de "supertúnel", baixa aberração e design de objetiva não magnética, além de possuir o recurso de "baixa voltagem, alta resolução" para garantir suas capacidades analíticas em nanoescala. As colunas de íons facilitam um Ga + Fonte de íons metálicos líquidos com feixes de íons altamente estáveis e de alta qualidade para garantir capacidades de nanofabricação. O DB550 é uma estação de trabalho completa para nanoanálise e fabricação, com um nanomanipulador integrado, sistema de injeção de gás e software de interface gráfica (GUI) de fácil utilização.
Microscopia Eletrônica de Varredura por Emissão de Campo de Ultra-alta Resolução (FESEM) O CIQTEK SEM5000X É um FESEM de ultra-alta resolução com design otimizado de coluna de óptica eletrônica, reduzindo as aberrações gerais em 30% e alcançando resolução ultra-alta de 0,6 nm a 15 kV e 1,0 nm a 1 kV. Sua alta resolução e estabilidade o tornam vantajoso na pesquisa de materiais nanoestruturais avançados, bem como no desenvolvimento e na fabricação de chips de circuitos integrados semicondutores de alta tecnologia.