CIQTEK lança solução de feixe duplo de wafer de 8 polegadas para observação em tamanho real, corte de precisão e processamento abrangente

À medida que a fabricação de semicondutores avança para nós de processo mais refinados, a análise de defeitos em nível de wafer, a localização de falhas e a micro-nanofabricação se tornaram essenciais para melhorar o rendimento. CIQTEK apresenta o Solução de processamento de tamanho completo de feixe duplo de wafer de 8 polegadas , combinando imagens de alta resolução e processamento preciso de feixe de íons para alcançar "observação-análise-corte" em todo o wafer, fornecendo forte suporte técnico para processos avançados de semicondutores.

Esta solução conta com um estágio de amostra de alta precisão e curso longo de 150 mm, permitindo a observação e o processamento não destrutivos de wafers de 8 polegadas em toda a superfície do wafer. Com um sistema de navegação óptica externo e algoritmos anticolisão inteligentes, garante o posicionamento rápido e preciso do wafer e uma operação segura. O sistema é equipado com um canhão de elétrons de emissão de campo Schottky, com resolução de 0,9 nm a 15 kV e resolução de feixe de íons de 3 nm a 30 kV, capaz de detectar defeitos, fatiar seções transversais e fabricar microestruturas em nanoescala.

Principais vantagens:

• Estágio de deslocamento de 150 mm:

• • Combina longo curso com alta precisão para um amplo alcance de observação.

  • Excelente compatibilidade com luminárias de diferentes tamanhos.

  • Estrutura robusta garante estabilidade do wafer e carregamento rápido e confiável.

• Troca rápida de 8 polegadas:

  • Design inteligente de suporte de peso com base deslizante para estabilidade e durabilidade.

  • Compatibilidade de tamanho completo: suporta wafers de 2/4/6/8 polegadas.

  • Troca rápida de amostras: bombeamento a vácuo e carregamento de amostras em um minuto.

• Software e Anticolisão:

• • Navegação inteligente totalmente automática com movimento e posicionamento precisos.

  • Movimento coordenado multieixo para observação de wafer completo.

  • Anticolisão inteligente: Simulação de trajetória e cálculos espaciais algorítmicos para evitar riscos.

  • Monitoramento múltiplo em tempo real: monitoramento multiângulo em tempo real da posição do wafer.

• Navegação óptica externa:

  • O design da estrutura ultraestável suprime a trepidação da imagem.

  • Imagens de alta definição com um campo de visão preciso para exibição de wafer completo.

  • A iluminação profissional antirreflexo reduz o reflexo da superfície do wafer.

Faixa de observação de wafer

Solução para microscópio eletrônico de feixe duplo CIQTEK combina hardware excepcional com sistemas de software inteligentes, permitindo detecção eficiente de defeitos e otimização de processos por meio de ajuste de brilho e contraste com um clique, foco automático e saída de imagem multiformato, capacitando os usuários a concluir toda a cadeia de tarefas, desde a descoberta de defeitos até a otimização do processo.