Reconstrução 3D de alta velocidade e alta resolução: a solução de microscopia eletrônica volumétrica CIQTEK revela novas dimensões na caracterização biológica

Ga + Microscópio eletrônico de varredura por emissão de campo de feixe de íons focalizado O Microscópio eletrônico de varredura de feixe de íons focalizado (FIB-SEM) CIQTEK DB550 Possui uma coluna de feixe de íons focalizado para nanoanálise e preparação de amostras. Utiliza tecnologia de óptica eletrônica de "supertúnel", baixa aberração e design de objetiva não magnética, além de possuir o recurso de "baixa voltagem, alta resolução" para garantir suas capacidades analíticas em nanoescala. As colunas de íons facilitam um Ga + Fonte de íons metálicos líquidos com feixes de íons altamente estáveis e de alta qualidade para garantir capacidades de nanofabricação. O DB550 é uma estação de trabalho completa para nanoanálise e fabricação, com um nanomanipulador integrado, sistema de injeção de gás e software de interface gráfica (GUI) de fácil utilização.

De alta velocidade Emissão de campo totalmente automatizada Microscópio Eletrônico de Varredura Estação de trabalho CIQTEK HEM6000 tecnologias de instalações como o canhão de elétrons de corrente de feixe grande de alto brilho, sistema de deflexão de feixe de elétrons de alta velocidade, desaceleração de estágio de amostra de alta tensão, eixo óptico dinâmico e lente objetiva combinada eletromagnética e eletrostática de imersão para obter aquisição de imagem em alta velocidade, garantindo resolução em nanoescala. O processo de operação automatizada foi projetado para aplicações como um fluxo de trabalho de geração de imagens de alta resolução em grandes áreas, mais eficiente e inteligente. Sua velocidade de geração de imagens é mais de cinco vezes mais rápida do que a de um microscópio eletrônico de varredura por emissão de campo (FESEM) convencional.

Microscopia Eletrônica de Varredura por Emissão de Campo de Ultra-alta Resolução (FESEM) O CIQTEK SEM5000X É um FESEM de ultra-alta resolução com design otimizado de coluna de óptica eletrônica, reduzindo as aberrações gerais em 30% e alcançando resolução ultra-alta de 0,6 nm a 15 kV e 1,0 nm a 1 kV. Sua alta resolução e estabilidade o tornam vantajoso na pesquisa de materiais nanoestruturais avançados, bem como no desenvolvimento e na fabricação de chips de circuitos integrados semicondutores de alta tecnologia.