CIQTEK participará da ISTFA 2026 nos EUA com soluções de microscopia eletrônica para análise de falhas
CIQTEK participará da ISTFA 2026 nos EUA com soluções de microscopia eletrônica para análise de falhas
September 29, 2026
CIQTEK participará do ISTFA 2026, o 52º Simpósio Internacional de Testes e Análise de Falhas, que ocorrerá de 4 a 8 de outubro em San Antonio, Texas.
Visite-nos no Estande nº 317 para explorar as soluções de SEM e FIB-SEM da CIQTEK para análise de falhas em semicondutores, caracterização de defeitos e microscopia eletrônica avançada. Nossa Equipe de Microscopia Eletrônica dos EUA, incluindo experientes Gerentes de Soluções de ME, estará no local para discutir suas aplicações e ajudar a identificar as soluções de microscopia certas para o seu laboratório.
Conheça a Comunidade de Análise de Falhas no ISTFA 2026
Organizado pela ASM International, o ISTFA é um evento internacional líder para testes e análise de falhas em microeletrônica, reunindo engenheiros, pesquisadores, profissionais de laboratório e fornecedores de tecnologia da indústria de semicondutores.
A conferência foca em desafios do mundo real em análise de falhas, caracterização de dispositivos, microscopia, localização de defeitos, confiabilidade e tecnologias relacionadas.
SEM para Análise de Falhas em Semicondutores
À medida que os dispositivos semicondutores se tornam menores e mais complexos, a análise de falhas requer imagens de alta resolução e informações confiáveis de estruturas cada vez mais finas.
Nossas soluções de SEM podem suportar aplicações como:
Inspeção de dispositivos semicondutores e wafers
Análise de defeitos superficiais e morfologia
Imagens de alta resolução em baixa voltagem (low-kV)
Imagens de BSE para contraste de material
Análise de partículas e contaminação
Caracterização de componentes eletrônicos e embalagens
A imagem de SEM em baixa voltagem (low-kV) é especialmente valiosa ao examinar estruturas superficiais finas e características sensíveis. Combinada com opções flexíveis de detectores e imagens de BSE, ela ajuda os pesquisadores a obter informações estruturais e de material de amostras complexas.
Vá mais fundo com FIB-SEM
Nem toda falha pode ser compreendida a partir da superfície.
Para defeitos ocultos, interfaces e estruturas internas, o FIB-SEM combina processamento por feixe de íons focalizado com imagens de SEM de alta resolução, permitindo a preparação e análise de cortes transversais direcionados dentro do mesmo sistema.
Os sistemas DB550 FIB-SEM da CIQTEK suportam aplicações incluindo corte transversal em locais específicos, investigação de defeitos internos, análise de estruturas multicamadas, caracterização de interfaces e preparação avançada de amostras.
Isso oferece às equipes de análise de falhas uma maneira poderosa de passar da localização de um problema para a investigação do que está acontecendo abaixo da superfície.
Fale com a nossa equipe de ME dos EUA no estande nº 317
Escolher o microscópio eletrônico certo não se resume apenas a especificações. O tipo de amostra, os requisitos de imagem, o rendimento, o fluxo de trabalho, a capacidade da câmara, os detectores e as aplicações futuras, tudo isso importa.
É por isso que a nossa equipe de Microscopia Eletrônica dos EUA estará presente na ISTFA 2026, com Gerentes de Soluções de ME experientes disponíveis para responder a perguntas técnicas e discutir suas aplicações específicas.
Esteja você trabalhando com análise de falhas em semicondutores, inspeção de wafers, imagem de baixa voltagem (low-kV), contraste de materiais, análise de seção transversal ou fluxos de trabalho FIB-SEM, teremos o prazer de conversar.
Data: 4 a 8 de outubro de 2026 Local: San Antonio, Texas, EUA Estande da CIQTEK: nº 317
Passe no estande nº 317 e conheça a equipe de ME da CIQTEK nos EUA. Nos vemos na ISTFA 2026!
Ga + Microscópio eletrônico de varredura por emissão de campo de feixe de íons focalizado O Microscópio eletrônico de varredura de feixe de íons focalizado (FIB-SEM) CIQTEK DB550 Possui uma coluna de feixe de íons focalizado para nanoanálise e preparação de amostras. Utiliza tecnologia de óptica eletrônica de "supertúnel", baixa aberração e design de objetiva não magnética, além de possuir o recurso de "baixa voltagem, alta resolução" para garantir suas capacidades analíticas em nanoescala. As colunas de íons facilitam um Ga + Fonte de íons metálicos líquidos com feixes de íons altamente estáveis e de alta qualidade para garantir capacidades de nanofabricação. O DB550 é uma estação de trabalho completa para nanoanálise e fabricação, com um nanomanipulador integrado, sistema de injeção de gás e software de interface gráfica (GUI) de fácil utilização.
De alta velocidade Emissão de campo totalmente automatizada Microscópio Eletrônico de Varredura Estação de trabalho CIQTEK HEM6000 tecnologias de instalações como o canhão de elétrons de corrente de feixe grande de alto brilho, sistema de deflexão de feixe de elétrons de alta velocidade, desaceleração de estágio de amostra de alta tensão, eixo óptico dinâmico e lente objetiva combinada eletromagnética e eletrostática de imersão para obter aquisição de imagem em alta velocidade, garantindo resolução em nanoescala. O processo de operação automatizada foi projetado para aplicações como um fluxo de trabalho de geração de imagens de alta resolução em grandes áreas, mais eficiente e inteligente. Sua velocidade de geração de imagens é mais de cinco vezes mais rápida do que a de um microscópio eletrônico de varredura por emissão de campo (FESEM) convencional.
Microscopia Eletrônica de Varredura por Emissão de Campo de Ultra-alta Resolução (FESEM) O CIQTEK SEM5000X É um FESEM de ultra-alta resolução com design otimizado de coluna de óptica eletrônica, reduzindo as aberrações gerais em 30% e alcançando resolução ultra-alta de 0,6 nm a 15 kV e 1,0 nm a 1 kV. Sua alta resolução e estabilidade o tornam vantajoso na pesquisa de materiais nanoestruturais avançados, bem como no desenvolvimento e na fabricação de chips de circuitos integrados semicondutores de alta tecnologia.