CIQTEK DB500 é um microscópio eletrônico de varredura de emissão de campo com coluna de feixe de íons focados para nanoanálise e preparação de amostras, que é aplicado com tecnologia “SuperTunnel”, baixa aberração e design de lente objetiva sem magnetismo, com baixa tensão e alta resolução capacidade que garante sua capacidade analítica em nanoescala. A coluna de íons facilita uma fonte de íons metálicos líquidos Ga+ com um feixe de íons altamente estável e de alta qualidade para garantir capacidade de nanofabricação.
O DB500 é equipado com um nanomanipulador integrado, sistema de injeção de gás, mecanismo elétrico anticontaminação para a lente objetiva e 24 portas de expansão, tornando-o uma plataforma versátil de nanoanálise e fabricação com configurações abrangentes e capacidade de expansão.
• Tecnologia “SuperTunnel” Electron Optics com lente objetiva sem magnetismo, adequada para imagens de alta resolução e compatível com imagens de amostras magnéticas.
• A coluna de feixe de íons focado que produz um feixe de íons altamente estável e de alta qualidade, adequado para nanofabricação de alta qualidade e preparação de amostras TEM.
• Um manipulador acionado piezoeletricamente localizado na câmara da amostra com um sistema de controle integrado para manuseio preciso.
• Sistema desenvolvido de forma independente com forte capacidade de expansão. O design integrado do conjunto da fonte de íons para troca rápida da fonte de íons. Excelente serviço, apoiado por uma garantia incluída de três anos.
Resolução: 3 nm@30 KV
Corrente da sonda (faixa de corrente do feixe de íons): 1 pA ~ 50 nA
Faixa de tensão de aceleração: 500 V ~ 30 kV
Intervalo de troca da fonte iônica: ≥1000 horas
Estabilidade: 72 horas de operação ininterrupta
Câmara montada internamente
Três eixos totalmente acionados piezoeletricamente
Precisão do motor de passo ≤10 nm
Velocidade máxima de deslocamento 2 mm/s
Controle integrado
Projeto GIS único
Várias fontes de precursores de gás estão disponíveis
Distância de inserção da agulha ≥35 mm
Repetibilidade de movimento ≤10 μm
Repetibilidade do controle de temperatura de aquecimento ≤0,1°C
Faixa de aquecimento: temperatura ambiente ~ 90°C
Controle integrado
Sistema de feixe de elétrons | Tipo de arma de elétrons | Pistola de elétrons de emissão de campo Schottky de alto brilho |
Resolução | 1,2 nm@15 kV | |
Tensão de aceleração | 20V~30kV | |
Sistema de feixe de íons | Tipo de fonte de íons | Fonte líquida de íons de gálio |
Resolução | 3 nm@30 kV | |
Tensão de aceleração | 500 V ~ 30 kV | |
Câmara de Amostras | Sistema de vácuo | Controle totalmente automático, sistema de vácuo sem óleo |
Câmeras |
Três câmeras (Navegação óptica + monitor de câmara x2) |
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Tipo de palco | Estágio de amostra eucêntrico mecânico de 5 eixos | |
Faixa de palco |
X=110mm, Y=110mm, Z=65mm T: -10°~+70°, R:360° |
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Detectores e extensões | Padrão |
Detector na lente Detector Everhart-Thornley (ETD) |
Opcional |
Detector retrátil de elétrons retroespalhados (BSED) Detector retrátil de microscopia eletrônica de transmissão de varredura (STEM) Espectrômetro Dispersivo de Energia (EDS) Padrão de difração de retroespalhamento de elétrons (EBSD) Nanomanipulador Sistema de injeção de gás Limpador de Plasma Bloqueio de troca de amostra Painel de controle do trackball e botão |
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Programas | línguas | Inglês |
Sistema operacional | janelas | |
Navegação | Nav-Cam, navegação rápida por gestos | |
Funções Automáticas | Brilho e contraste automáticos, foco automático, estigma automático |